సమతల జల-శీతలీకరణ పరావర్తన రాగి అద్దం

సమతల జల-శీతలీకరణ పరావర్తన రాగి అద్దం

సమతల జల-శీతలీకరణ పరావర్తన రాగి అద్దం అనేది కాంతి పరావర్తన సూత్రంపై పనిచేసే ఒక ఆప్టికల్ మూలకం. ఇది పతనమయ్యే లేజర్ పుంజాన్ని వివిధ దిశలలోకి మళ్ళించి, పుంజాన్ని అందించడానికి మరియు కేంద్రీకరించడానికి వీలు కల్పిస్తుంది. సమీకృత జల-శీతలీకరణ రూపకల్పన అధిక-శక్తితో పనిచేయడానికి అనుమతిస్తుంది, అద్దం యొక్క సేవా జీవితాన్ని పొడిగిస్తుంది, మార్చవలసిన అవసరాన్ని తగ్గిస్తుంది మరియు నిర్వహణ ఖర్చులను తగ్గిస్తుంది. అందువల్ల ఇది కిలోవాట్-స్థాయి మరియు అంతకంటే ఎక్కువ లేజర్ ప్రాసెసింగ్ అనువర్తనాలకు అనుకూలంగా ఉంటుంది.

మెటీరియల్ & ప్రాసెస్

ఈ అద్దం 400 W/(m·K) కంటే ఎక్కువ ఉష్ణ వాహకత కలిగిన రాగి ఆధారంతో తయారు చేయబడింది, ఇది లేజర్ వికిరణం ద్వారా ఉత్పన్నమయ్యే వేడిని వేగంగా ప్రసరింపజేస్తుంది. నీటి-శీతలీకరణ వ్యవస్థతో కలిసి, ఇది ఉష్ణ సమతుల్యతను నిర్ధారిస్తుంది, ఉపరితల వైకల్యం లేదా పూత క్షీణతను నివారిస్తుంది. కొన్ని రకాలు యాంత్రిక బలం మరియు తుప్పు నిరోధకతను పెంచడానికి నికెల్-రాగి మిశ్రమలోహం (NiCu) ఆధారాన్ని ఉపయోగిస్తాయి.

ఆప్టికల్ ఉపరితలాన్ని డైమండ్ టర్నింగ్ లేదా ప్రెసిషన్ లాపింగ్ ద్వారా పూర్తి చేస్తారు, దీని ద్వారా λ/4 PV (@633 nm) ఉపరితల ఆకృతిని మరియు 20/10 (గీతలు/గుంతలు) ఉపరితల నాణ్యతను సాధిస్తారు. ఇది పరావర్తిత కిరణం యొక్క దశ స్థిరత్వానికి మరియు ఫైబర్ మరియు సాలిడ్-స్టేట్ లేజర్‌లు రెండింటికీ బీమ్-నియంత్రణ అవసరాలతో అనుకూలతకు హామీ ఇస్తుంది. పాలిష్ చేసిన సబ్‌స్ట్రేట్‌పై గట్టి బంగారు పూతను (సాధారణంగా 0.1–1 μm మందం) పూస్తారు, ఇది Ravg >99.5% (@10.6 μm) పరావర్తనతను మరియు మెరుగైన గీతల నిరోధకతను అందిస్తుంది.

మెరుగైన మెటాలిక్ రిఫ్లెక్టివ్ కోటింగ్, 10.6μm వద్ద రిఫ్లెక్టెన్స్ >99.5%

(గమనిక: X-అక్షం తరంగదైర్ఘ్యాన్ని మైక్రోమీటర్లలో, Y-అక్షం పరావర్తన శాతాన్ని సూచిస్తుంది.)

నీటి శీతలీకరణ రూపకల్పన

అద్దం బాడీ లోపల శీతలీకరణ మార్గాలు పొందుపరచబడి ఉంటాయి. ప్రసరించే నీరు లేదా ఒక ప్రత్యేక శీతలీకరణ ద్రవం వేడిని తొలగించి, లేజర్ పవర్ హ్యాండ్లింగ్ సామర్థ్యాన్ని 20–40 kW పరిధికి పెంచుతుంది. ఎంపిక చేసిన మోడళ్లలో అద్దం ముఖభాగం మరియు మౌంటింగ్ బేస్ రెండింటికీ స్వతంత్ర శీతలీకరణ సర్క్యూట్లు ఉంటాయి, ఇవి ఉష్ణ నిర్వహణను మరింత మెరుగుపరిచి, నిరంతర ఆపరేషన్‌ను వందల గంటలు లేదా అంతకంటే ఎక్కువ కాలం పాటు కొనసాగేలా చేస్తాయి.

అప్లికేషన్లు

ఈ అద్దం 10.6 μm మరియు సమీప-పరారుణ తరంగదైర్ఘ్యాల వద్ద పనిచేసే ఫైబర్ లేజర్‌లు (1–40 kW) మరియు CO₂ లేజర్‌లకు అనువైనది, ఇది స్టెయిన్‌లెస్ స్టీల్, అల్యూమినియం మిశ్రమాలు మరియు ఇతర పదార్థాల సమర్థవంతమైన మరియు స్థిరమైన ప్రాసెసింగ్ అవసరాలను తీరుస్తుంది. దీనిని లేజర్ వెల్డింగ్ క్లాడింగ్, యాడిటివ్ మాన్యుఫ్యాక్చరింగ్, లేజర్ క్వెంచింగ్ ఉపరితల మార్పు, లేజర్ ఎడ్జ్ బ్యాండింగ్, లేజర్ హీటింగ్ మరియు సంబంధిత ప్రక్రియలలో విస్తృతంగా ఉపయోగిస్తారు.

పరామితి