NIR ప్లాన్ Apo 50X/0.67 – త్రూ-సిలికాన్ ఇమేజింగ్ & ఫైబర్ లేజర్ ప్రాసెస్ పర్యవేక్షణ కోసం ఇన్ఫినిటీ కరెక్టెడ్ మెటలర్జికల్ ఆబ్జెక్టివ్

NIR ప్లాన్ అపో 50X/0.67 అనేది నియర్-ఇన్‌ఫ్రారెడ్ (NIR) అనువర్తనాల కోసం ప్రత్యేకంగా ఆప్టిమైజ్ చేయబడిన ఒక ప్రీమియం ఇన్ఫినిటీ కరెక్టెడ్ ప్లాన్ అపోక్రోమాటిక్ మైక్రోస్కోప్ ఆబ్జెక్టివ్. 0.67 న్యూమరికల్ అపర్చర్ (NA) మరియు 10 mm వర్కింగ్ డిస్టెన్స్ (WD)తో, ఇది 380–700 nm దృశ్యమాన పరిధిలో, అలాగే కీలకమైన 1064 nm తరంగదైర్ఘ్యం వద్ద అసాధారణమైన రిజల్యూషన్ (0.5 µm) మరియు అద్భుతమైన NIR ట్రాన్స్‌మిషన్‌ను అందిస్తుంది – ఇది సిలికాన్ వేఫర్ బ్యాక్‌సైడ్ ఇన్‌స్పెక్షన్, త్రూ-సిలికాన్ వయా (TSV) మెట్రాలజీ, మరియు ఫైబర్ లేజర్ ప్రాసెసింగ్ యొక్క రియల్-టైమ్ పర్యవేక్షణకు ఆదర్శంగా నిలుస్తుంది.

ప్రధాన లక్షణాలు:

• విస్తరణ: 50X
• న్యూమరికల్ అపెర్చర్ (NA): 0.67
• వర్కింగ్ డిస్టెన్స్ (WD): 10 మి.మీ.
• ఫోకల్ లెంగ్త్: 4 మి.మీ.
• రిజల్యూషన్: 0.5 µm
• క్షేత్ర లోతు (±DF): 0.75 µm
• గరిష్ట వీక్షణ క్షేత్రం: 0.5 మి.మీ.
• బరువు: 430 గ్రా
• ఆప్టికల్ డిజైన్: ఇన్ఫినిటీ కరెక్టెడ్, ప్లాన్ అపోక్రోమాట్ (APO)
• పనిచేసే తరంగదైర్ఘ్యం: 380–700 nm & 1064 nm
• ముంచే మాధ్యమం: గాలి